信息技术部的银河操作系统已经到了最后阶段,内核都已经完成,预计这个月末就能开启用户测试,不需要钟子星操心。
所以,他迫不及待的就离开了信息部和江浩然转向元素演变部。
......
中子战星。
几十个化学实验室里分布着上千人,大家联合实验,都领了各自的任务,投入最擅长的行列。
有的研究光致抗蚀剂、电镀化学品、封装材料,部分人攻克高纯试剂、特种气体、溶剂、清洗前掺杂剂、焊剂掩模、酸及腐蚀剂、电子专用胶黏剂。
这些电子化学品的人才国内非常多,但受限于环境被大量的埋没。
此时,他们都被中子星科技的超级人才库收集,一个个发了offer邀请过来。
业内顶级的条件,最好的环境,不计代价的投入资金,加上有钟子星在一旁指导,化学实验室三天两头就有突破的好消息传来。
但是,距离真正能够上台的高级成品,还有很长一段路要走。
电子化学品,大部分学过化学的人都有接触过,甚至在老师的领队下亲自参与过这些材料的合成。
比方说光刻胶,化学选修课——有机化学基础上,就有非常详细完整的合成路线,并且这种路线完全正确,老师还会给学生发布任务,让大家联合动手。
可完整归完整,大家都能按照步骤一点点的合成,想要登上舞台,让半导体巨头使用你的光刻胶这是不可能的。
电子化学最高壁垒不是一句空话。
随着光刻工艺的升级,对光刻胶的要求也越来越高。
为了避免光刻胶线条倒塌,线宽越小的光刻工艺,如目前的32nm,28nm、22nm光刻,对光刻胶的要求高的离谱,所需厚度越来越薄。
22nm的光刻技术制程,光刻胶的厚度要求达到了是100nm左右。
太厚曝光不足,太薄又无法有效的形成光阻,不能阻挡等离子体对衬底的刻蚀,非常的麻烦,必须要严格按照标准来镀膜。
钟子星与江浩然两人都穿着白大衣,带着护目镜和口罩,身边还跟着几位助手,独占一间实验室。
“第20次实验,厚度依然无法达标……”
江浩然操作着一台电子显示器,屏幕上的光刻胶厚度以数学模型呈现,均匀分布,但是远远无法达到顶尖的水准。
稍微低端的刻蚀足够,但绝对无缘顶级市场。
“得从其他方面入手!”
“比如加入一些别的材料?硅材料或碳材料!”钟子星双手扶着白色的实验台,陷入沉思。
以传统的方式进入光刻胶领域,想要超越深耕此道数十年的老牌巨头显然是不现实的,得走一走别的路才行。
“试试看,开始第21次实验!”
科研就是在失败中前进,没有人能形容找到路时那种心情,重要的是敢于尝试。
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